Hochauflösendes ultrastrukturelles Imaging

Mit den Feldemissions-Rasterelektronenmikroskopen (FE‑SEM) der Produktserien ZEISS GeminiSEM und ZEISS Sigma erzielen Sie kontrastreiche Bilder im Sub-Nanometerbereich. Darüber hinaus erleben Sie Imaging in TEM-ähnlicher Qualität mit Ihrem FE-SEM für die präzise Visualisierung intrazellulärer Strukturen, Organellen und Viren in ultradünnen Schnitten Ihrer in Harz gegossenen Proben.

ZEISS hat ein neues Multistrahl-Rasterelektronenmikroskop für das Imaging großer Probenbereiche entwickelt: die ZEISS MultiSEM Produktfamilie. In Kombination mit dem automatisierten Ultramikrotom für die Herstellung von Schnittbändern und der Anfertigung ultradünner Schnitte der Probe beschleunigt MultiSEM die Erfassung ultrahoch auflösender 3D‑Daten mittels Array-Tomographie erheblich. Das Mapping größerer Hirnschnitte (1 mm³) in hoher Auflösung, beispielsweise für die Konnektomforschung, und anderer voluminöser Gewebeproben ist nun in Reichweite.

Mit einem SEM wie das ZEISS EVO oder FE-SEM wie das ZEISS Sigma lässt sich die Oberflächenmorphologie verschiedenster Proben in unübertroffener Qualität abbilden – ohne Beschichtung und aufwändige Probenvorbereitung. Nutzen Sie diese Technologien zur Abbildung unbeschichteter Insekten oder von Knochenmaterial, Nasspräparaten, Gitterschnitten, in Harz gegossenen Block-Faces oder vitrifizierten Proben. Dank des druckvariablen Modus können Sie die Umgebungsbedingungen in der Kammer steuern und Ihre Proben bei Niedervakuumbedingungen abbilden.