Dünnfilme

Zu den größten Herausforderungen der Dünnfilmtechnik zählt das Imaging von Oberflächen mit hoher Auflösung, ohne dabei die Probe zu beschädigen. Mit EDX könnten präzise, hochauflösende chemische Daten aus den Proben gewonnen werden; dies ist jedoch aufgrund extrem geringer Röntgenzählraten problematisch.

Die Suche nach einer Lösung für diese Probleme hat die Entwicklung von FIB-SEM-Systemen vorangetrieben, die Bildgebung mit höherer Auflösung bei geringeren kV-Werten ermöglichen. Hochauflösendes SEM-Imaging unter 1 kV gilt heute als Benchmark bei der Analyse von Dünnfilmmaterialien. Bei Kombination mit einem hochauflösenden EDX-Elementverteilungsbild unter Verwendung fortschrittlicher Detektorsysteme (zur Maximierung der Raum- und Austrittswinkel) können höchst präzise chemischen Daten aus diesen Oberflächen gewonnen werden. So können Sie sicher sein, dass Ihr EDX-Spektrum bzw. die Elementanalyse Ihre Probe präzise abbildet.

ZEISS entwickelt Technologien für das Imaging mit hoher Auflösung und niedrigen kV-Werten, um zu Fortschritten bei Ihrer Forschungsarbeit beizutragen. ZEISS GeminiSEMs, kombiniert mit EDX-Detektoren, die speziell für die optischen Gemini SEM-Säulen entwickelt wurden, unterstützen Sie bei der Oberflächenanalyse strahlenempfindlicher Dünnfilme mit bislang unerreichter Auflösung. Konfokale Laser-Scanning-Techniken bieten darüber hinaus die Möglichkeit, schnelle und zerstörungsfreie 3D‑topografische Messungen optisch durchzuführen.